Φ1100真空蒸着装置 RMC-1100

製品概要

ARコーテイング等の光学薄膜蒸着装置

スペック例

排気システム

油回転ポンプ+メカニカルブースタポンプ+ 拡散ポンプ+ポリコールドチラー

巻取システム

光学式モニタ+自動蒸着コンピュータ

排気速度

2×10-3Paまで15分以内

到達圧力

1×10-4Pa以下

電子銃

3Kw

基板加熱

最高320℃

ドーム回転

3~15rpm

詳細

ガラス基板向け装置として基板加熱ヒータ、及びポリコールドチラーを搭載したモデルです。
蒸発源(電子銃、抵抗加熱)及び基板ドームサイズはご要望により各種対応しております。